常浩南微微露出惊讶的表情，只是隔着面罩展现不出来。
“还有外国订单？”
“嗯，产品主要面向国内和中亚市场。”吴明翰解释道，“中低水平制程这块，我们流片的良率和速度都有优势。”
常浩南突然意识到，如今半导体产业的情况，要远比自己过去那条时间线上复杂得多。
介绍间，黄炜注意到常浩南的目光并未停留在运行中的量产设备上，而是投向了不远处一个被透明围挡隔开的区域。
那里同样属于光罩制作区，但周围聚集的技术人员更多，氛围也更显紧张和专注。
“常院士，那边是我们的研发攻坚区。”黄炜解释道，“您也看到了，生产和研发在光刻这个环节，很多时候是共用同一条线，设备和技术是互通的。”
“那边就是在尝试双重甚至四重曝光技术，目标是用我们现有的NXT:1950iDUV光刻机，向更小的特征尺寸发起冲击。”
常浩南的目光转向吴明翰：“这就是之前您提到的，良品率最低、成本最高的环节？”
吴明翰脸上浮现出复杂的神情。
他没有直接回答，而是引着常浩南走向该区域旁边一个专门的陈列台。
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