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第1607章 多重曝光 (2 / 6)

作者:十月廿二 最后更新:2025/8/28 5:44:36
        正巧,一个批次的晶圆刚刚完成镀膜,被机械臂取出。

        他示意操作员取出一片样品,隔着专用视窗展示给常浩南。

        晶圆表面反射着顶灯的冷光,呈现出均匀的光泽。

        常浩南俯身盯着晶圆的尺寸和边缘,伸手隔着玻璃比划了一下,问道:“黄总,这一批是200mm(8英寸)?”

        “是的,常院士。”黄炜肯定道,“这是我们目前量产的主力尺寸。”

        旁边的吴明翰适时补充:“12英寸(300mm)的产线还在备产阶段,主要是……现在公司的资金和顶尖工程资源,绝大部分都集中投入到光刻环节的突破上,尤其是利用现有深紫外(DUV)设备攻坚更先进制程的研发。”

        “不过从技术储备的角度,我们并不落后太多,一旦资金或关键设备到位,提速会很快。”

        常浩南微微颔首,没有多言,示意继续前行。

        “后面就是光罩制作区了。”黄炜一边引路一边介绍,“把IC设计图用电子束刻在石英片上,就能制成光罩,这个东西类似照相底片,刚才生产的晶圆就是相片纸,基本原理和洗照片差不多。”

        虽然不完全准确,但足够生动,哪怕是外行也很容易理解。

        “这里是我们给客户提供代工服务的主力区域。”黄炜指着几台正在运行的光刻机介绍:“除了满足国内IC设计公司的需求之外,我们也承接像德州仪器等国际厂商的部分订单。”

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