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第120章 51区的脑补闭环了(1w) (15 / 31)

作者:鸦的碎碎念 最后更新:2025/7/8 16:09:16
        其中包括了硅材料提纯、平面工艺、光刻、刻蚀和互连等技术。

        而且此时的华国缺乏精密半导体制造设备,光刻机和晶圆切割机都很缺乏。

        最开始大家只能使用锯子手工切割硅片,并通过人工抛光达到所需平整度。

        光刻工艺需要高精度掩模和曝光系统更是只能依靠自制设备。

        “守觉,这块硅片的表面粗糙,刻蚀不均匀。我们的光刻设备精度不够。”

        “是的,我们只能靠手工调整掩模和曝光时间。必须再试几次。”

        大家都深知设备限制,不得不自力更生。

        最开始团队只能自制光刻掩模,通过反复试验优化曝光和显影工艺。

        设计最简单的光学系统,利用现有显微镜改装,勉强实现微米级图案化。

        这样搞,无论是良率还是稳定性都特别差。

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