黄昆这时候显示出了强大的自信：“当然。
你们应该很清楚华国在工业基础上的薄弱，和东德之间的差距吧。
我们只能用简易的CZ法去拉单晶硅都能做到5N，这可是建立在取法高精度的坩埚材料和提纯设备基础上。
东德的工业基础比我们要好得多，也只能做到4N。
我们目前围绕7N的技术路线已经非常清晰，只是受限于材料和设备的短缺，导致我们无法朝着这个目标前进。”
魏斯看了眼穆勒，穆勒知道这时候该自己发言了：“黄博士，能详细给我们介绍一下你们的技术路线吗？”
黄昆起身站到早就准备好的黑板前：
“不知道你们听过离子注入技术吗？”
穆勒和魏斯回答道：“知道。”
黄昆接着说：“那就好，这一技术是半导体制造中用于在纯硅晶圆上引入掺杂剂的关键工艺，主要用于改变硅的电学性能。
内容未完，下一页继续阅读