只是KRF光刻胶很容易研发，一两年就能搞定，但是星逸半导体用不上。
星逸半导体压根没有130纳米的生产线，最差的都是40纳米，先进的28纳米，都需要ARF光刻胶！
“为此，我们直接研发更先进的ARF光刻胶，可以用于130纳米到7纳米工艺所有节点！”
“但如此先进的光刻胶，研发难度很大，明年估计都难以突破，难度很大，最快也得后年！”
“最快后年，也就是2015年……”王逸点点头：
“胡老，28纳米光刻胶必须加快速度，不惜代价，多挖人，多投入，同时还得多囤货！”
ARF光刻胶保质期一年，2015年大战前得多囤货，最起码囤一年的，能撑到2016年！
这样2015年能突破，实现ARF光刻胶自产最好。
若是突破不了，还可以用囤的再撑一阵，撑到2016年，2016年能突破ARF光刻胶。
若是2016年都突破不了，那麻烦大了！
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